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[衛(wèi)生法規(guī)]初戴上頜局部義齒時 如果發(fā)現彎制的后腭桿離開腭粘...
原題
:
[衛(wèi)生法規(guī)]初戴上頜局部義齒時,如果發(fā)現彎制的后腭桿離開腭粘膜2mm,處理方法是
細菌大量人血并繁殖,稱為
答案:
A
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[衛(wèi)生法規(guī)]顳肌前份觸診位置在
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