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匾蓄藥用成份

含匾蓄甙(Avicularin)、槲皮甙(Quercitrin）、d-兒茶精(d–Catechol)、食子酸(Gallic acid)、咖啡酸(Caffeic acid)、草酸(Oxalic acid)、硅酸(Silicic acid)、綠原酸(Chlorogenic acid)、p–(p–Coumaric?acid)、鞣質(zhì)及臘等。

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